The Second International Symposium on Applied Plasma Science (ISAPS '99) : 20-24 September 1999, Osaka, Japan /

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Detalles Bibliográficos
Autor principal: International Symposium on Applied Plasma Science (2nd : 1999 : Osaka, Japan)
Autor Corporativo: International Symposium on Applied Plasma Science
Otros Autores: Kobayashi, A., Ghoniem, N. M., ed., Matsumura, T., ed.
Formato: Sin ejemplares
Lenguaje:
Publicado: Oxford : Pergamon, c2000.
Materias:

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