Selección de un sistema de barrido que permita dopar un sustrato con implantación iónica, de manera uniforme /

Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Autor principal: Arévalo, Horacio M.
Otros Autores: Salvatelli, E. 1937-2009., Universidad Nacional de Cuyo. Instituto de Física "Dr. José A. Balseiro".
Formato: Libro
Lenguaje:Español
Publicado: 1974.
Materias:
LEADER 01078ntm#a22002535a#4500
001 TSRCCAB014659
008 080903s1974####ag#ad##f#m####001#0#spa#d
005 20120222151947.0
003 AR-BCCAB
245 1 0 |a Selección de un sistema de barrido que permita dopar un sustrato con implantación iónica, de manera uniforme /  |c Horacio María Arévalo. 
260 # # |c 1974. 
300 # # |a s.n. :  |b il, fig. 
502 # # |a Tesis (licenciatura, Física) -- Universidad Nacional de Cuyo. Instituto de Física "Dr. José A. Balseiro", 1974. 
500 # # |a Director de tesis: Edgardo R. Salvatelli. 
500 # # |a Incluye índice. 
100 1 # |a Arévalo, Horacio M.  |4 dis 
700 1 # |a Salvatelli, E.  |q (Edgardo Rogelio),  |d 1937-2009.  |4 ths 
710 2 # |a Universidad Nacional de Cuyo.  |b Instituto de Física "Dr. José A. Balseiro".  |4 dgg. 
650 # 7 |a Ion implantation  |v Theses.  |2 inist 
650 # 7 |a Implatación de iones  |v Theses.  |2 inist 
653 # # |a Barrido mecánico 
040 # # |a arbccab  |b spa 
942 # # |c TS 
952 # # |2 udc  |a ARBCCAB  |b ARBCCAB  |i 13888  |o T.E. [043]53 1974 A31  |p 13888  |t 1  |y TS