Ion bombardment and ion-assisted etching in rf discharges /
Guardado en:
| Autor principal: | |
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| Otros Autores: | , |
| Formato: | Libro |
| Lenguaje: | Inglés |
| Publicado: |
1991.
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| Materias: |
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Instituto Balseiro
| Inventario | Ej. | Ubicación | Disponibilidad | Estado de Circulación |
|---|---|---|---|---|
| 13742 | 1 | 537.534.8[043] M313 | Sala | Disponible |
